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新凯来:中国半导体设备的“破壁者”

新凯来(SiCarrier)成立于2021年,是深圳国资委通过深圳市重大产业投资集团全资控股的半导体设备企业。尽管成立仅四年,但其核心团队70%来自华为“星光工程部”及2012实验室,承接了华为被制裁前的“玄武计划”技术积累,具备深厚的芯片制造研发基因。公司定

半导体 中芯国际 ald 半导体设备 epi 2025-09-12 01:18  5

魅族22评测——没“白”等 小尺寸旗舰新选择

都说好饭不怕晚,历经2次延期,魅族22终于来了。作为早期魅友,MX系列的经典不必多说,深度使用一周魅族22之后,我认为从基因里还是那个我熟悉的魅族,在手感、精致度、人性化方面依旧有着自己的坚持,所以,各位老魅友可以放心入了。

评测 魅族 ald eis 魅友 2025-09-16 16:51  5

汇成真空跌2.08%,成交额4.25亿元,后市是否有机会?

招股说明书:镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备(光刻、刻蚀和镀膜)之一,对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网,公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面,形

真空 成交额 ald 真空镀膜设备 真空镀膜 2025-09-16 16:20  10

微导纳米跌1.25%,成交额5.52亿元,今日主力净流入-458.15万

根据2025年1月28日公告:公司项目芯链融创由中关村芯链集成电路制造产业联盟牵头,联合包括公司在内的25家集成电路产业链企业出资设立,旨在打造集成电路设备、零部件和材料产业链融合平台。芯链融创(持股50%)与中芯国际、北京亦庄(分别持股25%)共同投资于北方

纳米 成交额 主力净流入 净流入 ald 2025-09-16 16:17  7

汇成真空涨1.10%,成交额4.31亿元,后市是否有机会?

招股说明书:镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备(光刻、刻蚀和镀膜)之一,对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网,公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面,形

真空 成交额 ald 真空镀膜设备 真空镀膜 2025-09-15 15:35  12

先进薄膜沉积设备前沿技术研发中心建设项目可行性研究报告

根据公司的战略布局以及先进工艺对半导体设备的技术需求,本项目拟开展多款先进薄膜沉积设备的研发,包括PECVD、ALD、沟槽填充 CVD等工艺设备,并逐步突破其中的前沿核心技术,进而形成一系列具有自主知识产权、面向前沿技术领域应用的先进薄膜沉积设备产品,同时,持

薄膜 ald 可行性研究 pecvd 薄膜沉积 2025-09-13 11:08  7

新器件新工艺点燃新材料新设备创新引擎

在半导体产业技术飞速迭代的当下,新器件新工艺推动新材料新设备创新发展论坛应势而起,成为行业瞩目的焦点盛会。随着集成电路不断向更小尺寸、更高性能迈进,5G、人工智能、物联网等新兴应用领域蓬勃发展,对半导体新器件与新工艺提出了前所未有的需求,这也为新材料、新设备的

创新 器件 工艺 ald 彭洪 2025-09-10 00:04  10

薄膜沉积设备细分第一股!半导体应用大幅放量,中报利润暴增10倍

本周大科技主线持续回调,半导体板块持续低迷,不少处于强势趋势中的绩优半导体股迎来了难得的回踩机会。今日趁周末继续给大家说一只海豚持续跟踪的绩优半导体设备股——微导纳米,质地稀缺,为ALD设备第一股同时也是该领域国内龙头,其业绩在23年一度爆发式增长,扣非利润同

半导体 利润 薄膜 ald 薄膜沉积 2025-09-08 10:56  9

东吴证券-中微公司-688012-发布多款刻蚀、薄膜新品,平台化布局持续加速-250906

刻蚀新品高深宽比CCP与金属刻蚀ICP,有望充分受益于制程演进:(1)公司新一代高深宽比CCP刻蚀机Primo UD-RIE基于成熟架构升级,配备六个反应腔,通过更高功率更低频率射频偏压电源,提供更高离子轰击能量,可以满足极高深宽比刻蚀的严苛要求,兼顾刻蚀精度

东吴 刻蚀 薄膜 ald 东吴证券 2025-09-07 07:06  13